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合成催化剂还原的三低是（）A、低水汽浓度B、低压力C、低氨冷温度D、低氢

题目

合成催化剂还原的三低是（）

  • A、低水汽浓度
  • B、低压力
  • C、低氨冷温度
  • D、低氢
相似考题

1.E－A－B－003374低变催化剂还原时,应在()的工艺条件下进行,以防止超温烧结。A、低空速B、低氢浓度C、低床层温度D、高床层温度

2.新氢管网对新氢压缩机的影响()A、新氢管网压力低，新氢压缩机出口压力低B、新氢管网温度高，新氢压缩机出口温度高C、新氢管网压力低，新氢压缩机出口温度高D、新氢管网温度低，新氢压缩机出口温度低

3.温度越（），压力越（），平衡氨含量越高。A、低、高B、高、高C、低、低D、高、低

4.升温还原控制原则()。A.三低：低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期B.三稳：提温稳、补氢稳、出水稳。C.三不准：提温提氢不准同时进行;水分不准带入合成塔;不准长时间高温出水D.三控制：控制补H2速度;控制CO2浓度;控制出水速度

更多“合成催化剂还原的三低是（）A、低水汽浓度B、低压力C、低氨冷温度D、低氢”相关问题

  • 第1题：

    催化剂升温还原的原则是（）。

    • A、高空速
    • B、高氢
    • C、高电炉
    • D、低水汽浓度

    正确答案:A,B,C,D

  • 第2题：

    氨合成催化剂升温还原操作过程中要坚持的“三高、四低”还原原则是？


    正确答案:高氢、高空速、高电炉功率、低温、低压、低水汽浓度、低氨冷温度。

  • 第3题：

    氨合成催化剂还原时，水汽浓度与（）有关

    • A、温度
    • B、压力
    • C、空速
    • D、成份

    正确答案:A,B,C

  • 第4题：

    合成催化剂床层炉温下降的原因是什么，正确的是（）

    • A、氨冷温度低
    • B、透平机出口开度过小
    • C、氢氮比不合格
    • D、气氨压力低

    正确答案:C

  • 第5题：

    低变催化剂还原初期氢浓度应为（）

    • A、0.1%～0.5%
    • B、1%
    • C、1.0%～5.0%
    • D、2%

    正确答案:A

  • 第6题：

    低变催化剂还原中期，至接近还原末期的入口氢浓度，不宜大于（）

    • A、0.5%
    • B、2%
    • C、10%
    • D、20%

    正确答案:B

  • 第7题：

    低变催化剂还原温度调节。


    正确答案: 一准备工作
    1穿戴劳保用品
    2工具、用具准备。
    二操作程序
    1低变催化剂还原时控制温度的手段（增加还原剂量可以使温度上升通过反应器入口温度可调控还原温度）；
    2低变催化剂还原时控制温度的原则（不能同时提高配氢量和提高温度）；
    3低变催化剂还原初始阶段的温度调节（180℃恒温结束后才开始配氢还原还原初期配氢浓度为0.1%—0.5%还原初期要严防氢气积累）
    4低变催化剂主还原阶段的温度调节（主还原阶段的温度为190℃—210℃还原期间的配氢浓度为≤2%）；
    5低变催化剂还原末后阶段的温度调节（还原末、后阶段的温度为230℃还原末后阶段的配氢浓度为20%）；
    6还原结束（反应耗氢量为0反应温度不再上涨）。
    三使用工具
    1正确使用用具；
    2正确维护工具。

  • 第8题：

    氢对氨合成塔塔壁的腐蚀会引起设备的脆裂而损坏，（）氢蚀越严重。

    • A、温度越高、压力越高
    • B、温度越低、压力越高
    • C、温度越低、压力越低
    • D、温度越高、压力越低

    正确答案:A

  • 第9题：

    甲醇合成催化剂升温还原中，下面哪一项不属于“三低”内容（）

    • A、低温出水
    • B、低氢还原
    • C、升温结束后有一个低负荷生产期
    • D、低速升温

    正确答案:D

  • 第10题：

    铜基催化剂还原的方法有（）

    • A、低氢还原法、无氢还原法
    • B、低氢还原法、高氢还原法
    • C、高氢还原法、高氢还原法

    正确答案:B

  • 第11题：

    升温还原控制原则（）。

    • A、三低：低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期
    • B、三稳：提温稳、补氢稳、出水稳
    • C、三不准：提温提氢不准同时进行；水分不准带入合成塔；不准长时间高温出水
    • D、三控制：控制补H2速度；控制CO2浓度；控制出水速度

    正确答案:A,B,C,D

  • 第12题：

    单选题
    脱异丁烷塔顶温度高的原因有（）。
    A

    塔底温度低

    B

    塔压力低

    C

    进料温度低

    D

    冷后温度低


    正确答案： B
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    异构化反应PX转化率低的原因是（）。

    • A、反应温度低
    • B、反应压力低
    • C、催化剂活性低
    • D、反应的氢油比低

    正确答案:A,C

  • 第14题：

    合成工序的氨冷系统依温度分为三级，各级闪蒸罐（）。

    • A、压力愈高，温度愈低
    • B、压力愈低，温度愈高
    • C、压力愈高，温度愈高
    • D、A与B都对

    正确答案:C

  • 第15题：

    氨合成催化剂还原时，出塔水汽浓度与温度、压力、空速有关。（）


    正确答案:正确

  • 第16题：

    合成高串低的事故现象是氨分、冷交液位低，放氨压力波动大，安全阀起跳。


    正确答案:正确

  • 第17题：

    转化催化剂还原时，水氢比过高，会造成（）。

    • A、催化剂过度还原
    • B、催化剂总体还原率达不到要求
    • C、上层催化剂还原率低
    • D、下层催化剂还原率低

    正确答案:B

  • 第18题：

    低变催化剂还原时，应在（）的工艺条件下进行，以防止超温烧结

    • A、低空速
    • B、低氢浓度
    • C、低床层温度
    • D、高床层温度

    正确答案:B,C

  • 第19题：

    低变催化剂还原结束标准之一，是低变反应器（）无耗氢

    • A、入口
    • B、催化剂还原
    • C、循环气
    • D、出口

    正确答案:B

  • 第20题：

    触媒还原过程中三低（）。

    • A、低温出水
    • B、低氢还原
    • C、还原后有一个低负荷生产期
    • D、高温出水

    正确答案:A,B,C

  • 第21题：

    三低：低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期。（）


    正确答案:正确

  • 第22题：

    脱异丁烷塔顶温度高的原因有（）。

    • A、塔底温度低
    • B、塔压力低
    • C、进料温度低
    • D、冷后温度低

    正确答案:B

  • 第23题：

    单选题
    合成工序的氨冷系统依温度分为三级，各级闪蒸罐（）。
    A

    压力愈高，温度愈低

    B

    压力愈低，温度愈高

    C

    压力愈高，温度愈高

    D

    A与B都对


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

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