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集成电路制造工艺员
题目
He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm2/s,这些元素称为()。A、活跃杂质B、快速扩散杂质C、有害杂质D、扩散杂质
题目
He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm
2
/s,这些元素称为()。
A、活跃杂质
B、快速扩散杂质
C、有害杂质
D、扩散杂质
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