此题为判断题(对,错)。
第1题:
晶体管的内部结构特点是:发射区杂质浓度最低,基区杂质浓度最高。
第2题:
10、晶体管的内部结构特点是:发射区杂质浓度最低,基区杂质浓度最高。
第3题:
以下措施中,不能提高晶体管截止频率的一项是()。
A.采用离子注入工艺降低晶体管的基区宽带Wb
B.降低基区两端杂质浓度比以提高电场因子
C.减小发射结和集电结面积以减小电容
D.适当降低集电区电阻率和厚度
第4题:
对于基区为均匀掺杂的npn晶体管,分别绘制在正向放大偏置、反向放大偏置、截止、过饱和这四种状态下发射区、基区、集电区的少子分布示意图。
第5题:
NPN型晶体管和PNP型晶体管都含有三个掺杂区,分别是发射区,基区和集电区