A.利用气体的电离效应
B.X线强度大时,电离电流大
C.X线强度大时,曝光时间长
D.电容充电电流与X线曝光量呈反比
E.电离电流小时,曝光时间长
第1题:
关于电离室自动曝光控制叙述错误的是
A.利用气体的电离效应
B.X线强度大时,电离电流大
C.X线强度大时,曝光时间短
D.电容充电电流与X线曝光量成反比
E.电离电流小时,需要的曝光时间长
第2题:
自动曝光控制的电离室利用了X线的
A.穿透作用
B.荧光作用
C.生物作用
D.电离作用
E.感光效应
第3题:
关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是
A.被照体很薄时,AEC也可立即切断X线
B.探测器有电离室式、半导体、荧光体三种
C.AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关
D.探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样
E.探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择
第4题:
电离室自动曝光控时利用了
A、光电效应
B、气体电离
C、计时器定时
D、康普顿效应
E、呼吸同步
第5题:
关于膝关节前后正位成像技术标准的叙述,错误的是
A.滤线栅:(-)
B.屏-片体系感度:标称感度200
C.摄影距离:100~120cm
D.自动曝光控制:(+)
E.曝光时间:<200ms