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关于电离室自动曝光控制叙述错误的是A.利用气体的电离效应B.X线强度大时,电离电流大C.X线强度大时,曝光时间短D.电容充电电流与X线曝光量成反比E.电离电流小时,需要的曝光时间长

题目

关于电离室自动曝光控制叙述错误的是

A.利用气体的电离效应

B.X线强度大时,电离电流大

C.X线强度大时,曝光时间短

D.电容充电电流与X线曝光量成反比

E.电离电流小时,需要的曝光时间长


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  • 第1题:

    下列关于自动曝光控制的叙述,错误的是

    A.可采用荧光体型探测器

    B.可采用电离室型探测器

    C.可减少人为条件选择不当的失误

    D.可自动切断X线的产生

    E.多在一钮制设备中使用


    正确答案:E

  • 第2题:

    电离室自动曝光控时利用了

    A、光电效应

    B、气体电离

    C、计时器定时

    D、康普顿效应

    E、呼吸同步


    参考答案:B

  • 第3题:

    电离室自动曝光系统一般将电离室置于

    A.人体前

    B.暗盒后

    C.球管前

    D.人与滤线栅间

    E.滤线栅与暗盒间


    正确答案:E

  • 第4题:

    关于电离室控时自动曝光控制,下列叙述错误的是

    A.利用气体的电离效应

    B.X线强度大时,电离电流大

    C.X线强度大时,曝光时间长

    D.电容充电电流与X线曝光量呈反比

    E.电离电流小时,曝光时间长


    正确答案:D

  • 第5题:

    自动曝光控制的电离室利用了X线的

    A.穿透作用

    B.荧光作用

    C.生物作用

    D.电离作用

    E.感光效应


    参考答案:D