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装置用除氧水二氧化硅控制值为()ppb。A、≤10B、≤20C、≤30D、≤40

题目
装置用除氧水二氧化硅控制值为()ppb。

A、≤10

B、≤20

C、≤30

D、≤40

相似考题

1.除氧水箱上的溢流装置是保证除氧器在运行中不会发生超压事故。()此题为判断题(对，错)。

2.装置用除氧水溶解氧控制值为()ppb。A、≤7B、≤6C、≤5D、≤8

3.装置用除氧水电导率控制值为()us／cm。A、≤10B、≤20C、≤30D、≤40

4.为防止除氧器的满水事故,在除氧水箱上应安装溢流装置。()此题为判断题(对，错)。

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  • 第1题：

    系统中加入氨水是为了调节除氧水的PH值。()

    此题为判断题(对，错)。


    参考答案：正确

  • 第2题：

    装置开工水洗用的水是()。

    A、新鲜水

    B、除氧水

    C、循环水

    D、除盐水


    参考答案：A

  • 第3题：

    一级化学除盐系统，应控制的出水指标是（）

    A钠离子、二氧化硅、电导率

    B硬度、PH值、氯根

    C硬度、氯根、碱度

    D碱度、硬度、电导率


    A
    略

  • 第4题：

    投用蒸汽发生器应()。

    A、先将除氧水引入蒸汽发生器

    B、再将除氧水引入中段回流蒸发器

    C、再将除氧水引入蒸汽发生器

    D、先将除氧水引入中段回流蒸发器


    参考答案：AB

  • 第5题：

    除氧水仅作反应高压空冷前注水以防铵盐结晶用。( )


    参考答案：×

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