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更多“CVD工艺当hg<<ks时,薄膜淀积速率受表面反应控制,对温度很敏感。”相关问题
  • 第1题:

    对同一反应,活化能一定,则反应的起始温度愈低,反应的速率系数对温度的变化愈敏感。( )


    答案:对
    解析:

  • 第2题:

    厌氧微生物对()很敏感,当有氧存在时它们就无法生存,所厌氧处理设备要()。


    正确答案:氧气;严格密封,隔绝空气

  • 第3题:

    对于某种薄膜的CVD过程,淀积温度为900℃,质量传输系数hG=10cms-1,表面反应速率系数ks=1×107exp(-1.9eV/kT)cms-1。现有以下两种淀积系统可供选择(1)冷壁,石墨支座型;(2)热壁,堆放硅片型。应该选用哪种类型的淀积系统并简述理由。


    正确答案: 反应室类型热壁:反应室腔壁与硅片及支撑件同时加热。一般为电阻丝加热,可精确控制反应腔温度和均匀性。适合对温度控制要求苛刻的化学反应控制淀积系统,腔内各处都发生薄膜生长。冷壁:仅对硅片和支撑件加热,一般采用辐照加热和射频加热,升降温快速,但温度均匀性差,适合对温度要求不高的质量输运控制。冷壁系统能够降低在侧壁上的淀积,减小了反应剂的损耗,也减小壁上颗粒剥离对淀积薄膜质量的影响。

  • 第4题:

    热导池检测器对温度很敏感,一般检测器的温度不得低于柱温。()


    正确答案:正确

  • 第5题:

    液压油的()对温度很敏感,温度略升高()就明显下降。


    正确答案:粘度;粘度

  • 第6题:

    酶对湿热环境是很敏感的,在湿热温度接近()时,各种酶几乎立即灭活。


    正确答案:水的沸点

  • 第7题:

    聚合物的粘流活化能越大,则其熔体粘度()

    • A、越大
    • B、对温度越敏感
    • C、对剪切速率越敏感

    正确答案:B

  • 第8题:

    厌氧微生物对氧气很敏感,当有氧存在时它们就无法生存,所厌氧处理设备要(),()。


    正确答案:严格密封;隔绝空气

  • 第9题:

    问答题
    解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别,哪种工艺依赖于温度,LPCVD和APCVD各属于哪种类型?

    正确答案: 质量传输限制淀积速率:淀积速率受反应物传输速度限制,即不能提供足够的反应物到衬底表面,速率对温度不敏感(如高压CVD.。
    反应速度限制淀积速率:淀积速率受反应速度限制,这是由于反应温度或压力过低(传输速率快),提供驱动反应的能量不足,反应速率低于反应物传输速度。LPCVD属于:反应速度限制淀积速率;APCVD属于:质量传输限制淀积速率。
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    单选题
    ()的熔体粘度不仅对温度敏感而且对剪切速率也很敏感;
    A

    PS

    B

    ABS

    C

    PC

    D

    PMMA


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    判断题
    CVD系统包括热壁式CVD系统和冷壁式CVD系统,在冷壁式CVD系统中侧壁温度与沉底温度相等。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    填空题
    正常情况下,牙髓对()℃之间的温度刺激不产生反应,但当发生()时则对温度刺激反应敏感,当发生()或()时反应迟钝或消失。

    正确答案: 20-50,炎症,变性,坏死
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    液压油的黏度对温度很敏感,温度略升高,黏度就明显下降;而压力对液压油的黏度影响很小。


    正确答案:正确

  • 第14题:

    质量输运限制CVD和反应速度限制CVD工艺的区别?


    正确答案:1、质量传输限制淀积速率
    淀积速率受反应物传输速度限制,即不能提供足够的反应物到衬底表面,速率对温度不敏感(如高压CVD)。
    2、反应速度限制淀积速率
    淀积速率受反应速度限制,这是由于反应温度或压力过低(传输速率快),提供驱动反应的能量不足,反应速率低于反应物传输速度。 可以通过加温、加压提高反应速度。

  • 第15题:

    当反应物浓度不变时,改变温度,反应速率也不变。


    正确答案:错误

  • 第16题:

    当吸附塔操作温度升高时,吸附速率下降。()


    正确答案:错误

  • 第17题:

    活化能越大,反应速率对温度的变化越敏感。


    正确答案:正确

  • 第18题:

    正常情况下,牙髓对()℃之间的温度刺激不产生反应,但当发生()时则对温度刺激反应敏感,当发生()或()时反应迟钝或消失。


    正确答案:20-50;炎症;变性;坏死

  • 第19题:

    莫诺德常数Ks是指生长速率达到最大比生长速率一半,()时的限制性基质浓度。


    正确答案:限制性基质浓度

  • 第20题:

    对于化学吸附,当吸附温度升高时,吸附速率(),吸附量()。


    正确答案:增大;减少

  • 第21题:

    填空题
    厌氧微生物对氧气很敏感,当有氧存在时它们就无法生存,所厌氧处理设备要(),()。

    正确答案: 严格密封,隔绝空气
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    判断题
    LPCVD系统中淀积速率是受表面反应控制的,APCVD系统中淀积速率受质量输运控制。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    填空题
    液压油的()对温度很敏感,温度略升高()就明显下降。

    正确答案: 粘度,粘度
    解析: 暂无解析

  • 第24题:

    问答题
    简述CVD工艺的的工艺流程

    正确答案: (1)气体或气相源材料进入反应器
    (2)源材料扩散穿过边界层并接触衬底
    (3)源材料吸附在衬底表面
    (4)吸附的源材料在衬底表面移动
    (5)源材料在衬底表面开始化学反应
    (6)固体产物在晶体表面形成晶核
    (7)晶核生长形成岛状物
    (8)岛状物结合形成连续的薄膜
    (9)其他气体副产品从衬底表面上放出
    (10)气体副产品扩散过边界层
    (11)气体副产品流出反应器
    解析: 暂无解析