半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后处理铸件表面,去除表面的氧化层,禁止使用的技术是
A、玻璃刷处理
B、超声清洗
C、喷砂技术
D、橡皮轮抛光
E、布轮抛光
第1题:
安置在基牙部分的附着体阴性结构镶嵌在基牙牙冠内,不突出牙冠外,附着体阳性结构设置在义齿上。此种附着体为
A、冠外附着体
B、半精密附着体
C、弹性附着体
D、冠内附着体
E、精密附着体
第2题:
50~100p;micro;m的氧化铝主要用于( )。
A、贵金属基底冠的粗化
B、半贵金属基底冠的粗化
C、非贵金属基底冠的粗化
D、去除铸件表面的包埋料
E、去除铸件表面在铸造过程中形成的氧化膜
第3题:
半精密附着体制作过程中,附着体的阳性部件或阴性部件与金属支架的连接的方式不正确的是( )。
A、整体铸造
B、激光焊接
C、树脂链接
D、点焊
E、熔焊
第4题:
根据附着体制作工艺,半精密附着体可分为
A、磁性附着体和吸力式附着体
B、冠内半精密附着体和冠外半精密附着体
C、成品附着体和自制附着体
D、冠内半精密附着体和牙根内半精密附着体
E、摩擦机械式附着体和摩擦式附着体
第5题:
安置在基牙部分的附着体阴性结构镶嵌在基牙牙冠内,不突出牙冠外,附着体阳性结构设置在义齿上。此种附着体是( )。
A、冠外附着体
B、半精密附着体
C、弹性附着体
D、冠内附着体
E、精密附着体