在烧结过程中,主要是氧化气氛,局部是__________。
第1题:
烧结过程中总体是氧气性气氛,局部是__________气氛。
第2题:
TiO2-x是因为()而产生的
A.反应物中O2-离子浓度太小。
B.在还原性气氛中烧结,气氛中氧的分压很低。
C.在氧化性气氛中烧结。
D.在烧结中有杂质参加。
第3题:
17、所有的瓷坯在还原气氛中的烧结温度均比在氧化气氛中高。
第4题:
第5题:
BaTiO3陶瓷半导体化的方法有_______________。
A.在缺氧气氛下烧结
B.在富氧气氛下烧结
C.进行施主离子掺杂
D.进行受主离子掺杂