薄层色谱法中,薄层板的活化温度是
A、80℃
B、100℃
C、105℃
D、120℃
E、150℃
1.在薄层色谱鉴别法中,硅胶薄层板的活化温度为()。A、120℃B、80℃C、110℃D、60℃
2.自制薄层板的活化条件为A、110℃活化30分钟B、105℃活化30分钟C、120℃活化20分钟D、120℃活化50分钟E、110℃活化60分钟
3.TLC法中,薄层板的活化温度是A.80℃B.90℃C.100℃D.105℃E.120℃
4.薄层色谱法中,薄层板的活化温度是A.80℃B.100℃C.1050CD.1200CE.150℃
第1题:
在薄层色谱法中,薄层板活化的温度一般为
A.60℃
B.80℃
C.110℃
D.130℃
E.150℃
第2题:
第3题:
第4题:
第5题: